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        近年來(lái),光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是最熱門(mén)的話題.可以說(shuō),光刻機(jī)是芯片制造的靈魂,而蝕刻機(jī)是芯片制造的靈魂.要制造高端芯片,這兩件事必須是一流的.

        這兩個(gè)機(jī)器的最簡(jiǎn)單的解釋是,光刻機(jī)將電路圖投影在覆蓋有光致抗蝕劑的硅片上,而蝕刻機(jī)將多余的電路圖刻在剛剛繪制了硅片的硅片上.電路圖這似乎并不困難.是的,但是圖像有一個(gè)隱喻.每個(gè)芯片上的電路結(jié)構(gòu)擴(kuò)展了數(shù)倍,并且比整個(gè)北京都要復(fù)雜.這是光刻和雕刻的困難.

        光刻工藝包括在已經(jīng)發(fā)生的硅晶片表面上涂覆一層光致抗蝕劑(類(lèi)似于凝膠的物質(zhì),可能會(huì)受到光的腐蝕),然后使光通過(guò)(過(guò)程困難,紫外光<深紫外光<極紫外光)圓形硅表面輻射穿過(guò)掩模(類(lèi)似于投影).因?yàn)楣庵驴刮g劑被覆蓋,所以被照射的部分被記錄并且未照明的部分被留下.這部分是所需的電路結(jié)構(gòu).

        蝕刻有兩種類(lèi)型,一種是干法蝕刻,另一種是濕法蝕刻(主流).顧名思義,濕法蝕刻是在加工過(guò)程中添加水.使光刻晶片與特定的化學(xué)溶液反應(yīng).其余部分是電路的結(jié)構(gòu).干雕刻尚未實(shí)現(xiàn)商業(yè)批量生產(chǎn).原理是使用等離子體代替化學(xué)溶液來(lái)消除不必要的圓形硅部件.

        目前,中國(guó)蝕刻機(jī)和光刻機(jī)的發(fā)展是比較可惜的,而且還處于非常局部的狀況:中國(guó)微電子大規(guī)模生產(chǎn)7納米雕刻機(jī)已直接進(jìn)入世界最受歡迎的列.無(wú)論是上海微電子的90納米光刻機(jī)還是無(wú)錫的陰影速度200納米光刻機(jī),都遠(yuǎn)遠(yuǎn)沒(méi)有達(dá)到世界上最先進(jìn)的7納米制程.在這兩個(gè)路徑中,我們還要繼續(xù)再接再厲.